[发明专利]一种增强反常霍尔效应的方法有效

专利信息
申请号: 201610053351.8 申请日: 2016-01-26
公开(公告)号: CN105552216B 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 韩芍娜;邢玮玮;黄海松;赵艳伟;赵娜 申请(专利权)人: 郑州工商学院
主分类号: H01L43/14 分类号: H01L43/14;H01L43/06
代理公司: 郑州优盾知识产权代理有限公司41125 代理人: 孙诗雨,董晓慧
地址: 451400 河南省郑州市*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供一种增强反常霍尔效应的方法,可以通过调控电压来控制正常霍尔效应和反常霍尔效应的强弱。所述方法是按照下述方式进行的步骤(1),用脉冲激光沉积法在基片上制备电极;步骤(2),在电极层上制备铁电薄膜;步骤(3),在铁电薄膜上面,镀上两个十字形的Pt薄膜;步骤(4),将Ag焊到Pt的6个端点或者银浆点到Pt的端点上;步骤(5),测量霍尔效应。本发明将Pt沉积在绝缘的磁性材料上,便可以对其导电性和磁性进行测量和表征,直接通过外电场可以调控正常霍尔效应和反常霍尔效应的强弱。
搜索关键词: 一种 增强 反常 霍尔 效应 方法
【主权项】:
一种增强反常霍尔效应的方法,其特征在于是按照下述方式进行的:步骤(1),用脉冲激光沉积法在基片上制备电极,首先将 (001) 取向的基片分别在丙酮、酒精中用超声波进行清洗,晾干;用砂纸将基片台进行打磨,并清洗干净,将晾干的基片用导热银胶粘在基片台上;晾干后放入腔体中加热台上,开始抽真空至 10‑4 Pa,加热基片台650℃ ,用挡板将基片挡住,进行预溅射以去掉靶材表面的污物,预溅射过程中,羽辉末端与基片台相切;转动基片台及靶材,并使激光在 X、Y 方向来回扫描;待温度、气压稳定之后,移开挡板,进行沉积,制备电极层;步骤(2),在电极层上制备铁电薄膜,在步骤(1)的基础上,将温度设置到600 ℃,把靶材转换成铁电靶材,将氧气设为 15 Pa;达到目标温度后,用挡板将基片挡住,进行预溅射以去掉铁电靶材表面的污物,预溅射过程中,使羽辉末端与基片台相切;转动基片台及靶材,并使激光在 X、Y 方向来回扫描;待温度、气压稳定之后,移开挡板,进行沉积,得到铁电薄膜,沉积结束之后,按照需要充入气体并缓慢降温;步骤(3),在铁电薄膜上面,镀上两个十字形的Pt薄膜;在步骤(2)的基础上,用具有两个十字形的掩膜板将铁电薄膜挡住,利用脉冲激光沉积法沉积厚度为1~5 nm的Pt;沉积的过程中气压为 10‑4 Pa;步骤(4),在步骤(3)的基础上,通过超声焊将Ag焊到Pt的6个端点或者银浆点到Pt的端点上;步骤(5),测量霍尔效应,将Ag和电极分别连接在脉冲电源的正负极,施加不同的电压后放入PPMS系统进行霍尔效应的测量,得到不同极化方向、不同脉冲个数下的霍尔效应。
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