[发明专利]含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用有效

专利信息
申请号: 201610055597.9 申请日: 2016-01-28
公开(公告)号: CN105669889B 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 王力元;张晨颖 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: C08F212/14 分类号: C08F212/14;C08F220/28;C08F8/00;C08F8/42;C08F8/34;C08F8/12;G03F7/004
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摘要: 发明提供一种含光产酸基团的苯乙烯衍生物与甲基丙烯酸酯的多元共聚物、其合成方法及其用于光致抗蚀剂材料。对苯乙烯磺酸盐、对乙酰氧基苯乙烯和甲基丙烯酸酯通过自由基聚合反应得到多元共聚物,利用酸催化脱保护的方法将乙酰氧基转化为羟基,再与鎓盐卤化物进行离子交换反应得到含光产酸基团的苯乙烯衍生物与甲基丙烯酸酯的共聚物。这种聚合物由于含有光产酸基团,在曝光过程中产生大分子的磺酸,因此可作为化学增幅型光致抗蚀剂使用的大分子光产酸剂。此外,可将该聚合物中的部分酚羟基用可酸解基团保护起来,既可作为光产酸剂使用也可组成单组份248‑nm光致抗蚀剂材料。可用于深紫外、极紫外、电子束等光刻技术使用的抗蚀剂。
搜索关键词: 含光产酸 基团 苯乙烯 衍生物 甲基 丙烯酸酯 共聚物 制备 及其 应用
【主权项】:
1.一种含鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物与甲基丙烯酸酯单体的多元共聚物,具有如通式(I)所示的结构:其中x,y,z分别为三种聚合单体的聚合度,R1是各种鎓盐阳离子基团,选自如下结构:其中R4,R5表示C1‑C4烷基,R6表示C1‑C6烷基或C6‑C10芳基,R7,R8,R9表示H或C1‑C4烷基,R10表示H或C1‑C2烷基,R11表示C1‑C6烷基或C6‑C10芳基;R2部分为H,部分为可酸解的保护基,可酸解的保护基为如下的叔丁氧羰基或者三甲基硅基:R3是选自如下结构的基团中的1个或2个:‑H,‑CH3,‑CH2CH3,‑CH(CH3)2,‑C(CH3)3,‑CH2CH2OH,
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