[发明专利]曝光装置、曝光方法、及元件制造方法

摘要

一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。

主权项

1.一种曝光装置，用于用照明光曝光基板，其特征在于，其具备：投影光学系统，用于将该照明光投影到排列于该投影光学系统的下方的基板上；被配置成支撑该投影光学系统的框架结构；各自具有反射型格子部的多个格子构件，该多个格子构件的每个格子构件被该框架结构支撑以使得该格子部与正交于该投影光学系统的光轴的既定面大致平行地被排列；载台，其可在该格子构件的下方移动，且被配置成保持该基板；以及编码器系统，具有被设置于该载台的多个读头，该多个读头的每个读头被配置成从该格子部的下方向该格子部上照射光束，以便获取该载台的位置资讯；驱动系统，其具有被配置成驱动该载台的马达；以及控制系统，其被配置成基于所获取的位置资讯控制该驱动系统，其中该读头的每个读头被设置于该载台以便关于平行于该既定面的方向被排列在该载台的上面的外侧，并且其中该格子构件被该框架结构支撑以便在平行于该既定面的方向可移动。