[发明专利]一种KDP晶体材料真空吸盘有效

专利信息
申请号: 201610056619.3 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN105485144B 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: 关佳亮;赵显辉;任勇;孙晓楠;戚泽海;路文文 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: F16B47/00 分类号: F16B47/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种KDP晶体材料真空吸盘,专用真空吸盘高强度固定支架通过专用真空吸盘高强度固定支架固定螺母螺栓组件安装在高平整度工作台和液体静压导轨支撑板组件上;真空吸盘平衡调节器分布在真空吸盘平衡调节板的四角,“回”形沟槽的沟槽宽度和深度一致,每个沟槽通过一个通气孔相通,通气孔与专用真空吸盘导气管相连接,专用真空吸盘导气管与气泵及真空发生器组件相连接,当气泵及真空发生器组件工作时,该真空吸盘表面的“回”形沟槽里为真空状态,从而使真空吸盘具有吸力而固定住KDP晶体零件。该真空吸盘还适用于所有非加工面为平面的零件,保证装夹精度,由于不存在非均匀力装夹变形,从而大大降低了零件的加工残余应力。
搜索关键词: 一种 kdp 晶体 材料 真空 吸盘
【主权项】:
一种KDP晶体材料真空吸盘,该真空吸盘安装在专用真空吸盘高强度固定支架侧面上,专用真空吸盘高强度固定支架通过专用真空吸盘高强度固定支架固定螺母螺栓组件安装在高平整度工作台和液体静压导轨支撑板组件上;其特征在于:该真空吸盘包括真空吸盘固定板(1)、真空吸盘固定板固定螺旋孔(2)、真空吸盘平衡调节器(3)、真空吸盘平衡调节板(4)、真空吸盘密封通气孔连接器(5)、真空吸附腔(6)、软橡胶薄(7)、“回”形沟槽(9)和通气孔(8);真空吸盘固定板固定螺旋孔(2)设置在真空吸盘固定板(1)的周向位置;真空吸盘平衡调节板(4)设置在真空吸盘固定板(1)表面;真空吸附腔(6)设置在真空吸盘平衡调节板(4)上;真空吸盘平衡调节器(3)由高精度静压螺旋副加弹簧调节器组成,分布在真空吸盘平衡调节板(4)的四角,真空吸盘平衡调节器(3)用于微调节真空吸附腔(6)的水平度和垂直度,保证零件高精度平整度加工要求;真空吸盘密封通气孔连接器(5)设置在真空吸盘平衡调节板(4)的一侧并与气泵和真空发生器相连接,用于抽走真空吸附腔(6)中的空气;真空吸附腔(6)由低密度高强度铝合金制成,表面分布着一圈圈“回”形沟槽(9),“回”形沟槽(9)的底部设有通气孔(8),通气孔(8)与气泵相连,气泵与真空发生器相连;当气泵和真空发生器启动后,抽走“回”形沟槽(9)中的空气,从而形成负气压,从而使真空吸附腔(6)具有吸力;软橡胶薄(7)附着在真空吸附腔(6)表面,起到增大摩擦和密封空气的作用,保证真空吸附腔(6)的吸力,并且保护被装夹零件不被损坏;所述“回”形沟槽(9)的沟槽宽度和深度一致,每个沟槽通过一个通气孔(8)相通,通气孔(8)与专用真空吸盘导气管相连接,专用真空吸盘导气管与气泵及真空发生器组件相连接,当气泵及真空发生器组件工作时,该真空吸盘表面的“回”形沟槽(9)里为真空状态,从而使真空吸盘具有吸力而固定住KDP晶体零件。
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