[发明专利]碳纳米管分子内p-n结二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610060895.7 申请日: 2016-01-28
公开(公告)号: CN105529401A 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 陈长鑫;刘晓东 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王毓理;王锡麟
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种碳纳米管分子内p-n结二极管及其制备方法,通过在定位于基片上的碳纳米管的两端采用电子束光刻和磁控溅射方式制作金属电极,然后通过旋涂光刻胶并选择性曝光后对单根碳纳米管的左右两部分分别进行p型掺杂和n型掺杂,从而制备得到单根碳纳米管分子内p-n结二极管。本发明采用化学掺杂的方法,制备得到的器件具有优良的整流特性,在室温空气中性能稳定,并通过施加不同栅压和改变掺杂参数,可以自由实现对二极管性能进行调控。
搜索关键词: 纳米 分子 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种碳纳米管分子内p‑n结二极管的制备方法,其特征在于,通过在定位于基片上的碳纳米管的两端采用电子束光刻和磁控溅射方式制作金属电极,然后通过旋涂光刻胶并选择性曝光后对单根碳纳米管的左右两部分分别进行p型掺杂和n型掺杂,从而制备得到单根碳纳米管分子内p‑n结二极管。
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