[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201610061279.3 申请日: 2016-01-28
公开(公告)号: CN105467667B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 熊雄;刘荣铖;刘玉东;赵剑 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1343
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗瑞芝;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于显示技术领域,具体涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵,所述彩膜层包括依次循环排列的多个不同颜色的子彩膜层,述黑矩阵设置于相邻的所述子彩膜层之间的间隙区、且与相邻的所述子彩膜层无重叠相接,所述黑矩阵采用含有离子的材料形成,所述黑矩阵的下方设置有工艺电极层,形成所述黑矩阵的材料在电场作用下能在所述工艺电极层的上方产生沉积。该彩膜基板结构简单,其中黑矩阵上表面和子彩膜层上表面基本齐平,可以有效降低子彩膜层与黑矩阵之间的段差;相应的,该彩膜基板的制备方法中,其中的黑矩阵的制备结合采用了光刻显影技术和电沉积技术制备,简化了制备工艺。
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
1.一种彩膜基板,包括彩膜层和黑矩阵,所述彩膜层包括依次循环排列的多个不同颜色的子彩膜层,其特征在于,所述黑矩阵设置于相邻的所述子彩膜层之间的间隙区、且与相邻的所述子彩膜层无重叠相接,所述黑矩阵采用含有离子的材料形成,所述黑矩阵的下方设置有工艺电极层,形成所述黑矩阵的材料在电场作用下能在所述工艺电极层的上方产生沉积,所述黑矩阵与所述工艺电极层的厚度之和等于所述子彩膜层的厚度,所述黑矩阵的宽度和所述工艺电极层的宽度分别等于相邻的所述子彩膜层之间的间隙区的宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610061279.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top