[发明专利]一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统有效

专利信息
申请号: 201610064253.4 申请日: 2010-12-29
公开(公告)号: CN105716630B 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: G.德波尔;J.J.J.范巴尔;K.P.帕德耶;R.莫赛尔;N.弗吉尔;S.W.H.K.斯廷布林克 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G01D3/036 分类号: G01D3/036;G01D5/241;G01B7/02;G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统,该电容式感测系统包括用于测量所述电容式传感器与靶材之间的距离的两个或更多个电容式传感器、用于为所述电容式传感器供电的一个或多个AC电源、以及用于处理来自所述电容式传感器的信号的信号处理电路,其中所述传感器被成对配置,其中所述一个或多个AC电源被配置成以交流电流或电压为一对传感器中的第一传感器供电,该交流电流或电压与供应给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度,且其中所述信号处理电路配置成从该对传感器中的每一传感器接收输出信号,并基于接收到的输出信号产生有关于该对传感器与靶材间的平均距离的测量数值。
搜索关键词: 一种 用于 光刻 机器 集成 传感器 系统 电容 式感测
【主权项】:
1.一种用于光刻机器的集成传感器系统的电容式感测系统,该电容式感测系统包括用于测量电容式传感器与靶材之间的距离的两个或更多个所述电容式传感器、用于为所述电容式传感器供电的一个或多个AC电源、以及用于处理来自所述电容式传感器的信号的信号处理电路,其中所述传感器被成对配置并被构成极为接近最后聚焦组件,其中所述一个或多个AC电源被配置成以交流电流或电压为一对传感器中的第一传感器供电,该交流电流或电压与供应给该对传感器中的第二传感器的电流或电压相位相差180度,且其中一对所述传感器被配置成极为接近并且提供用于单个测量距离值的测量单元,所述信号处理电路配置成从该对传感器中的每一传感器接收输出信号,并基于接收到的输出信号产生有关于该对传感器与靶材间的平均距离的测量数值。
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