[发明专利]一种辐照紫外接枝改性高截留率纳滤膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种辐照紫外接枝改性高截留率纳滤膜的制备方法，属于纳滤膜制备领域。本发明首先将聚丙烯腈超滤膜置于氢氧化钠溶液中浸泡，并用去离子水洗涤后，置于改性聚醚砜亚胺溶液中浸泡，取出，置于阴离子聚苯乙烯磺酸钠水溶液中浸泡，用去离子水洗涤并干燥后，与碳酸氢铵溶液混合，进行矿化反应，将其平铺至培养皿中，随后添加丙烯腈单体，保证其完全将纳滤膜浸泡，将其进行紫外灯辐照进行改性处理，收集纳滤膜并置于乙醇溶液中，超声清洗后，干燥即可。本发明制备的纳滤膜对氯化钠等物质的截留率达到80％以上，水通量达到120～155L/(m²·h·MPa)，抗污染性能好，制备工艺简单可靠，适用于工业化。

主权项

一种辐照紫外接枝改性高截留率纳滤膜的制备方法，其特征在于具体制备步骤为：（1）选取截留分子量为10万的聚丙烯腈超滤膜，将其置于2.2～2.5mol/L氢氧化钠溶液中，浸泡处理50～60min，待浸泡完成后，将其取出并用去离子水洗涤至pH为7.0，制备得改性基膜；（2）按固液质量比1:15，将0.05mol/L碳酸钙溶液添加至5mg/L的聚醚砜亚胺溶液中，搅拌混合制备得阳离子改性聚醚砜亚胺溶液，随后将上述制备的改性基膜置于改性聚醚砜亚胺溶液中，使其浸泡处理20～30min；（3）待浸泡完成后，取出基膜，将其再次置于5mg/L的阴离子聚苯乙烯磺酸钠水溶液中浸泡处理20～30min，随后再次取出基膜，用去离子水洗涤pH至7.0，在40～50℃下干燥6～8h，制备得电解基膜；（4）将上述制备的电解基膜置于可密闭的不锈钢反应釜中，随后继续添加质量浓度为20%碳酸氢铵溶液中，保证将电解基膜完全浸没，将反应釜置于25～30℃下矿化反应3～5h后，将电解基膜取出并置于45～50℃下干燥2～3h，制备得预改性高截留率纳滤膜；（5）收集上述制备的预改性高截留率纳滤膜，将其平铺至培养皿中，随后添加接枝溶液丙烯腈单体，使其完全将纳滤膜浸泡，随后将培养皿置于带有300W紫外灯和排气扇的辐照箱中，控制紫外灯与培养皿距离为10～15cm；（6）待调整灯距后，对辐照箱中通入氮气排除空气，随后打开紫外灯，使其紫外辐照接枝改性处理25～30min，待接枝完成后，收集纳滤膜并置于质量分数为30%乙醇溶液中，在200～300W超声振荡中清洗5～10min，随后收集纳滤膜并置于40～50℃下真空干燥6～8h，即可制备得一种辐照紫外接枝改性高截留率纳滤膜。