[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201610069114.0 申请日: 2016-02-01
公开(公告)号: CN105845603B 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 张健;天野嘉文;冈本英一郎;伊藤优树 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置。不阻碍在对基板进行液处理时产生的气流而能够良好地对基板进行液处理。在本发明中,具有:基板旋转保持部(1013),其用于保持基板(1004)并使基板旋转;处理液供给部(1014),其向由基板旋转保持部保持着的基板的下表面供给处理液,基板旋转保持部具有:底板(1025),其以与基板隔开间隔地配置在基板的下方;罩体(1026),其由底板支承,配置于基板的外周外侧;排出口(1043),其形成于底板和罩体之间,用于将在基板的下方产生的气流排出,底板和罩体之间的支承部分(1037)相对于底板的上表面向外侧突并与罩体连接。
搜索关键词: 基板液 处理 装置 方法 以及
【主权项】:
1.一种基板液处理装置,其特征在于,/n该基板液处理装置具有:/n基板旋转保持部,其用于保持基板并使该基板旋转;/n处理液供给部,其用于向由所述基板旋转保持部保持着的基板供给处理液,/n所述基板旋转保持部具有:/n底板,其与所述基板隔开间隔地配置于所述基板的下方;/n罩体,其利用支承部分支承于所述底板,配置于所述基板的外周外侧;/n排出口,其形成于所述底板和罩体之间,用于将在所述基板的下方产生的气流排出,/n所述底板和所述罩体之间的支承部分相对于所述底板的上表面的外边缘向外侧突出而与所述罩体连接,/n将所述底板和所述罩体之间的支承部分形成于比所述基板的下表面靠下方的位置。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610069114.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top