[发明专利]一种基底面型测量方法及测量装置有效

专利信息
申请号: 201610069182.7 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN107024185B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 韩春燕;李术新 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种基底面型测量方法及测量装置,该方法包括S1:上载基底到基底台上,通过基底台位置测量装置测量基底台的位置得到基底台位置值,开启调焦调平系统,将m×n的光斑矩阵入射到基底上,光斑矩阵的列距为d1,行距为d2,其中n≥3,m≥3;S2:在基底上规划扫描路径,移动基底台,使光斑矩阵沿着扫描路径相对基底台移动,并记录每次移动时光斑矩阵中每个子光斑测得的基底位置值,其中光斑矩阵在X方向上移动的步长为d1,在Y方向上移动的步长为d2;S3:整理步骤S2中子光斑测得的所有基底位置值,并根据基底位置值和基底台位置值,对基底位置值进行修正,最后根据修正后的基底位置值计算基底的面型。从而消除基底台高度和倾斜姿态引起的测量值改变。
搜索关键词: 一种 基底 测量方法 测量 装置
【主权项】:
一种基底面型测量方法,其特征在于,包括:S1:上载基底到基底台上,通过基底台位置测量装置测量所述基底台的位置得到基底台位置值,开启调焦调平系统,将m×n的光斑矩阵入射到所述基底上,所述光斑矩阵的列距为d1,行距为d2,其中n≥3,m≥3;S2:在所述基底上规划扫描路径,移动所述基底台,使所述光斑矩阵沿着所述扫描路径相对所述基底台移动,并记录每次移动时所述光斑矩阵中每个子光斑测得的基底位置值,其中所述光斑矩阵在X方向上移动的步长为d1,在Y方向上移动的步长为d2;S3:整理步骤S2中所述子光斑测得的所有基底位置值,并根据所述基底位置值和所述基底台位置值,对所述基底位置值进行修正,最后根据修正后的所述基底位置值计算所述基底的面型。
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