[发明专利]一种基底面型测量方法及测量装置有效
| 申请号： | 201610069182.7 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN107024185B | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 韩春燕;李术新 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基底面型测量方法及测量装置，该方法包括S1：上载基底到基底台上，通过基底台位置测量装置测量基底台的位置得到基底台位置值，开启调焦调平系统，将m×n的光斑矩阵入射到基底上，光斑矩阵的列距为d1，行距为d2，其中n≥3，m≥3；S2：在基底上规划扫描路径，移动基底台，使光斑矩阵沿着扫描路径相对基底台移动，并记录每次移动时光斑矩阵中每个子光斑测得的基底位置值，其中光斑矩阵在X方向上移动的步长为d1，在Y方向上移动的步长为d2；S3：整理步骤S2中子光斑测得的所有基底位置值，并根据基底位置值和基底台位置值，对基底位置值进行修正，最后根据修正后的基底位置值计算基底的面型。从而消除基底台高度和倾斜姿态引起的测量值改变。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基底 测量方法 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种基底面型测量方法，其特征在于，包括：S1：上载基底到基底台上，通过基底台位置测量装置测量所述基底台的位置得到基底台位置值，开启调焦调平系统，将m×n的光斑矩阵入射到所述基底上，所述光斑矩阵的列距为d1，行距为d2，其中n≥3，m≥3；S2：在所述基底上规划扫描路径，移动所述基底台，使所述光斑矩阵沿着所述扫描路径相对所述基底台移动，并记录每次移动时所述光斑矩阵中每个子光斑测得的基底位置值，其中所述光斑矩阵在X方向上移动的步长为d1，在Y方向上移动的步长为d2；S3：整理步骤S2中所述子光斑测得的所有基底位置值，并根据所述基底位置值和所述基底台位置值，对所述基底位置值进行修正，最后根据修正后的所述基底位置值计算所述基底的面型。
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