[发明专利]用于计算机断层扫描中的散射校正的信号处理方法及成像系统有效

专利信息
申请号: 201610071120.X 申请日: 2016-02-01
公开(公告)号: CN107019518B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 芮雪;吴明烨;金燕南;彼得·迈克尔·埃迪克;布鲁诺·克里斯蒂安·伯纳德·德曼 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了信号处理方法,其包括探测穿过包括多种材料的物体的X射线的总强度;获得多种材料的基础材料信息以及物体的光电吸收基础成分和康普顿散射基础成分的基础成分信息中的至少一组基础信息;根据至少一组基础信息和探测到的总强度来估算探测到的X射线的散射强度分量;及根据探测到的总强度和估算出的散射强度分量来获得入射到探测器上的初级X射线的强度估算值。本发明还公开了使用上述信号处理方法的成像系统。
搜索关键词: 用于 计算机 断层 扫描 中的 散射 校正 信号 处理 方法 成像 系统
【主权项】:
一种信号处理方法,其包括:探测穿过包括多种材料的物体的X射线的总强度;获得所述多种材料的基础材料信息以及所述物体的光电吸收基础成分和康普顿散射基础成分的基础成分信息中的至少一组基础信息;根据所述至少一组基础信息和所述探测到的总强度来估算所述探测到的X射线的散射强度分量;及根据所述探测到的总强度和所述估算出的散射强度分量来获得入射到探测器上的初级X射线的强度估算值。
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