[发明专利]基于衍射光栅的位移测量系统及方法

摘要

本发明提供一种基于光栅的位移测量系统和方法，通过设置光源、棱镜与衍射光栅以及光电探测器，并配置相应的控制系统，由于棱镜固定在能够移动的工作台上，衍射光栅固定在整机框架上，当能够移动的工作台相对于光刻机的整机框架作位移时，光源发出的光通过衍射光栅衍射后产生的干涉条纹则发生变化，因此通过控制系统对干涉条纹的变化计算可得出能够移动的工作台相对于光刻机的整体框架的位移量。这种测量系统结构简单，安装方便，由于放置在密闭包装箱体中进行测量，在测量时受到外界的干扰较小，因此相对于传统的干涉仪测量精度更高。

主权项

一种基于衍射光栅的位移测量系统，其特征在于，依次包括：一光源，用于提供测量光；一棱镜，固定在能够移动的工作台一侧，用于反射所述测量光；一衍射光栅，固定在整机框架上，用于接收被所述棱镜反射后的测量光；一光电探测器，用于接收所述测量光从所述衍射光栅衍射后的衍射光，所述衍射光在所述光电探测器上形成干涉条纹；一非空气传播光路结构，设置在所述衍射光栅和所述光电探测器之间，用于在非空气传播光路中，传播所述衍射光；一控制系统，用于电路连接所述光电探测器，根据光电探测器接收的所述干涉条纹的位置及相位的变化计算所述工作台相对于整机框架的位移。