[发明专利]一种用于检测氢氟酸浓度的高衍射强度可视化传感器有效
申请号: | 201610073782.0 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN105651797B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 李越;门丹丹;杭立峰;刘迪龙;蔡伟平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | G01N23/207 | 分类号: | G01N23/207 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;李闯 |
地址: | 230031 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于检测氢氟酸浓度的高衍射强度可视化传感器,采用以下步骤制备而成:制备单层胶体晶体阵列,并以该单层胶体晶体阵列为模板,采用物理沉积方法在模板的表面沉积一层金膜;对沉积有金膜的模板进行热分解及退火处理,从而制得二维金纳米阵列;将氢氟酸敏感性水凝胶的反应液注入到二维金纳米阵列上,并加盖玻璃片,然后进行10~30min的光聚合处理,再经过剥离、水洗后,制得用于检测氢氟酸浓度的高衍射强度可视化传感器。本发明能够在不借助高反射镜的条件下测得HF酸的强烈衍射信号,从而可以实时地对HF酸的浓度进行快速检测,而且该可视化传感器的制备工序简单、成本低廉、容易操作,适合实际工业应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 检测 氢氟酸 浓度 衍射 强度 可视化 传感器 | ||
【主权项】:
1.一种用于检测氢氟酸浓度的高衍射强度可视化传感器,其特征在于,采用以下步骤制备而成:步骤A、制备耐热基底上的单层胶体晶体阵列,并以该单层胶体晶体阵列为模板,采用物理沉积方法在所述模板的表面沉积一层厚度为10~40nm的金膜;步骤B、对上述沉积有金膜的模板进行热分解及退火处理,以去除单层胶体晶体阵列,从而制得二维金纳米阵列;步骤C、将氢氟酸敏感性水凝胶的反应液注入所述的二维金纳米阵列上,并加盖玻璃片,然后进行10~30min的光聚合处理,再经过剥离、水洗后,从而制得二维金纳米阵列/智能水凝胶复合材料;将该二维金纳米阵列/智能水凝胶复合材料直接作为用于检测氢氟酸浓度的高衍射强度可视化传感器。
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