[发明专利]光学膜的制造方法在审
申请号: | 201610076537.5 | 申请日: | 2016-02-03 |
公开(公告)号: | CN105891929A | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 铃木畅 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于制造局部膜厚变化了的缺陷少的光学膜。在本发明的光学膜的制造方法中,从挠性基材的卷绕体(2)将具备制膜面(11)和背面(12)的长状的基材(1)退卷,向下游侧连续地运送,将基材(1)的背面(12)清洗后,在基材(1)的制膜面(11)上涂布液晶材料。在基材的背面与清洗辊(41)之间供给清洗液,利用清洗辊将清洗液涂布展开在基材上,由此清洗基材背面。 | ||
搜索关键词: | 光学 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学膜的制造方法,其具有:抽出工序,从挠性基材的卷绕体将具备第一主面和第二主面的长状的基材退卷,并向下游侧连续地运送;清洗工序,对所述基材的第二主面进行清洗;和制膜工序,在所述基材的第一主面上涂布液晶材料,在所述清洗工序中,在所述基材的第二主面与清洗辊之间供给清洗液,利用所述清洗辊将所述清洗液在基材上涂布展开,由此进行所述基材的清洗。
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