[发明专利]用于氧化铟层的蚀刻剂组合物,蚀刻方法,使用它们的液晶显示器阵列基板及其制造方法在审
申请号: | 201610079267.3 | 申请日: | 2016-02-04 |
公开(公告)号: | CN105907396A | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 金泰完;安基熏;李昔准 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C09K13/04 | 分类号: | C09K13/04;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人: | 钟锦舜 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开了用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物,蚀刻方法,使用它们的液晶显示器阵列基板及其制造方法,所述蚀刻剂组合物包括硝酸或亚硝酸、氯化合物、硝酸盐化合物和水。 | ||
搜索关键词: | 用于 氧化 蚀刻 组合 方法 使用 它们 液晶显示器 阵列 及其 制造 | ||
【主权项】:
用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物,其包括:基于所述蚀刻剂组合物的总重量,5至12wt%的硝酸或亚硝酸,0.01至5wt%的氯化合物,0.01至3wt%的硝酸盐化合物,和余量的水,使得所述蚀刻剂组合物的总重量是100wt%。
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