[发明专利]蚀刻剂组合物及使用其形成透明电极的方法在审
| 申请号： | 201610079608.7 | 申请日： | 2016-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN105885850A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 权玟廷;金宝衡;刘仁浩 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人： | 钟锦舜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
公开了用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物以及使用其形成透明电极的方法，所述蚀刻剂组合物包括5‑10wt％的硝酸，0.5‑5wt％的磺酰氯类化合物，0.1‑5wt％的环胺化合物，和剩余部分的水。当蚀刻厚的氧化铟层( |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 使用 形成 透明 电极 方法 | ||
【主权项】：
用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物，包括：5‑10wt％的硝酸，0.5‑5wt％的磺酰氯类化合物，0.1‑5wt％的环胺化合物，和剩余部分的水。
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