[发明专利]光扫描装置及使用了该光扫描装置的图像形成装置有效
申请号: | 201610081950.0 | 申请日: | 2016-02-05 |
公开(公告)号: | CN105892045B | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 中野一成 | 申请(专利权)人: | 京瓷办公信息系统株式会社 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G03G15/043 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 周善来;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明为能得到良好的光学性能的光扫描装置及使用了其的图像形成装置。光扫描装置具备光源单元、偏转体和扫描透镜。所述偏转体反射从所述光源单元发出的第一光线和第二光线,并沿主扫描方向扫描被扫描面。所述扫描透镜配置在所述偏转体和所述被扫描面之间,具有光线的入射面和出射面,使所述第一光线和所述第二光线在所述被扫描面上成像。所述入射面和所述出射面中的至少一个面是所述第一光线通过的第一折射面和所述第二光线通过的第二折射面排列配置在所述副扫描方向上的光学折射面。在所述光扫描装置中,所述第一折射面具有的第一母线和所述第二折射面具有的第二母线在所述副扫描方向上的间隔,随着从所述主扫描方向的中央部前往端部而变大。 | ||
搜索关键词: | 光扫描装置 偏转体 图像形成装置 副扫描方向 主扫描方向 被扫描面 光线通过 光源单元 扫描透镜 出射面 入射面 折射面 母线 面具 扫描 折射 光学性能 光学折射 排列配置 中央部 成像 反射 配置 | ||
【主权项】:
1.一种光扫描装置,其特征在于,所述光扫描装置包括:光源单元,其包括:光源,发出向被扫描面照射的第一光线以及第二光线;以及入射光学系统,用于所述第一光线以及所述第二光线,以使所述第一光线和所述第二光线排列在副扫描方向上且在所述副扫描方向上的间隔在朝向所述被扫描面的方向上扩大的方式,相对于垂直于所述副扫描方向的基准线倾斜地发出所述第一光线以及所述第二光线;偏转体,反射从所述光源单元发出的所述第一光线以及所述第二光线,使所述第一光线以及所述第二光线沿主扫描方向扫描所述被扫描面;以及扫描透镜,配置在所述偏转体和所述被扫描面之间,具有光线的入射面和出射面,使所述第一光线以及所述第二光线在所述被扫描面上成像,所述入射面和所述出射面中的至少一个面是光学折射面,通过将所述第一光线通过的第一折射面和所述第二光线通过的第二折射面排列配置在所述副扫描方向上而得到所述光学折射面,所述第一折射面具有的第一母线和所述第二折射面具有的第二母线在所述副扫描方向上的间隔,随着从所述主扫描方向的中央部前往端部而变大,所述扫描透镜具备第一端面和第二端面,所述第一端面和所述第二端面由与所述主扫描方向平行的平面构成,所述第一端面是配置有所述第一折射面侧的副扫描方向上的端面,所述第二端面是配置有所述第二折射面侧的副扫描方向上的端面,当设通过所述第一折射面的所述第一光线的光线中心与所述第一端面之间的距离为W1、设通过所述第二折射面的所述第二光线的光线中心与所述第二端面之间的距离为W2、设所述第一端面与所述第二端面之间的距离为W时,满足下述式子(1),(W1+W2)×2>W (1)。
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