[发明专利]光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法

摘要

本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置，描绘装置、显示装置制造方法，可提高形成于被转印体的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有以下的工序：准备图案设计数据A的工序；获得表示由光掩模保持在曝光装置中引起的主表面的变形量的转印面形状数据C的工序；获得表示在描绘装置的工作台上载置光掩模坯体的状态下的主表面的高度分布的描绘时高度分布数据E的工序；算出描绘时高度分布数据E与转印面形状数据C的差值来获得描绘差值数据F的工序；估算与描绘差值数据F对应的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；以及采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。

主权项

1.一种光掩模的制造方法，该方法包括准备在基板的主表面上形成有薄膜和光致抗蚀膜的光掩模坯体，并利用描绘装置来描绘预定的转印用图案的情况，在该光掩模的制造方法中，具有以下的工序：/n根据所述预定的转印用图案的设计来准备图案设计数据A的工序；/n准备通过测定所述主表面的表面形状而获得的基板表面形状数据B的工序；/n获得转印面形状数据C的工序，将所述光掩模保持在曝光装置内时根据保持部件的形状而在所述表面形状中产生的移位反映到所述基板表面形状数据B中而获得所述转印面形状数据C；/n获得描绘时高度分布数据E的工序，在所述描绘装置的工作台上使所述主表面成为上侧来载置所述光掩模坯体的状态下，测定所述主表面的高度分布而获得所述描绘时高度分布数据E；/n采用所述描绘时高度分布数据E和所述转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序；/n估算所述主表面上的多个点处的与所述描绘差值数据F对应的坐标偏差量而求出描绘用坐标偏差量数据G的工序；以及/n采用所述描绘用坐标偏差量数据G和所述图案设计数据A在所述光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。/n