[发明专利]用于测量沉积速率的设备在审
| 申请号： | 201610086605.6 | 申请日： | 2016-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN106065465A | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 姜泰旻;曹永锡 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供一种用于测量沉积速率的设备，所述设备包括：光源单元，在真空室中位于沉积源和基板之间的沉积区域中，所述光源单元朝向从沉积源放出的沉积材料发射单色光；光传感器单元，测量当从光源单元发射的光穿过沉积区域时沉积区域中的光吸收、光散射和光发射中的至少一种；多通道形成单元，在光源单元和光传感器单元之间限定多通道路径。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 沉积 速率 设备 | ||
【主权项】：
一种用于测量沉积速率的设备，所述设备包括：光源单元，在真空室中位于沉积源和基板之间的沉积区域中，所述光源单元朝向从所述沉积源放出的沉积材料发射单色光；光传感器单元，测量当从所述光源单元发射的光穿过所述沉积区域时所述沉积区域中的光吸收、光散射和光发射中的至少一种；多通道形成单元，在所述光源单元和所述光传感器单元之间限定多通道路径。
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