[发明专利]基板保持机构以及使用该基板保持机构的基板处理装置在审
申请号: | 201610086738.3 | 申请日: | 2016-02-16 |
公开(公告)号: | CN105887047A | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 加藤寿 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种基板保持机构以及使用该基板保持机构的基板处理装置。该基板保持机构是用于将基板保持于基座上的预定的基板保持区域上的基板保持机构,其中,该基板保持机构具有:基板保持构件,其设置于所述基板保持区域的周围,其通过从所述基板保持区域的外侧向内侧旋转,能够以预定的接触面与载置到所述基板保持区域上的所述基板的侧面部接触;施力部件,其对该基板保持构件施加朝向内侧方向的作用力,通过该作用力,使得该基板保持构件与所述基板的侧面部接触而能够保持所述基板;释放构件,其通过对所述基板保持构件施加用于克服与该施力部件的所述作用力的力,而能够将所述基板保持构件释放成能够将所述基板沿着铅垂方向抬起的状态。 | ||
搜索关键词: | 保持 机构 以及 使用 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种基板保持机构,其用于将基板保持于基座上的预定的基板保持区域上,其中,该基板保持机构具有:基板保持构件,其设置于所述基板保持区域的周围,其通过从所述基板保持区域的外侧向内侧旋转,能够以预定的接触面与载置到所述基板保持区域上的所述基板的侧面部接触;施力部件,其对该基板保持构件施加朝向内侧方向的作用力,通过该作用力,使得该基板保持构件与所述基板的侧面部接触而能够保持所述基板;释放构件,其通过对所述基板保持构件施加用于克服与该施力部件的所述作用力的力,而能够将所述基板保持构件释放成能够将所述基板沿着铅垂方向抬起的状态。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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