[发明专利]用于调节光刻曝光系统的光源的方法以及用于光刻设备的曝光组件在审
| 申请号： | 201610088033.5 | 申请日： | 2016-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN106054536A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 保罗·凯撒 | 申请（专利权）人： | 苏斯微技术光刻有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 杨生平;钟锦舜 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于通过以下步骤调节包括多个LED的光刻曝光系统的光源的方法：检测特定的波长范围内的单个LED的光输出，且将检测到的光输出与在整个光谱上期望的光输出分布进行比较。操作LED使得以可能的最精确的方式完成期望的光谱光输出分布。本发明也涉及一种用于光刻设备的曝光组件，其具有包括多个LED的光源、控制供应到单个LED的电功率的控制装置以及能够检测在波长的相应范围中的LED的光输出的传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 调节 光刻 曝光 系统 光源 方法 以及 设备 组件 | ||
【主权项】：
一种用于调节包括多个LED(18、20、22)的光刻曝光系统的光源(16)的方法，包括以下步骤：检测特定波长范围中的所述单个LED(18、20、22)的光输出；将检测到的光输出与在整个光谱上期望的光输出分布进行比较；操作所述LED(18、20、22)使得以可能的最精确的方式完成期望的光谱的光输出分布。
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