[发明专利]附载体铜箔、附载体铜箔的制造方法、印刷配线板用附载体铜箔及印刷配线板在审

专利信息
申请号: 201610090046.6 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN105682347A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 永浦友太;古曳伦也;森山晃正 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: H05K1/09 分类号: H05K1/09;H05K3/02;H05K3/38;B32B3/30
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及附载体铜箔、附载体铜箔的制造方法、印刷配线板用附载体铜箔及印刷配线板。具体涉及一种附载体铜箔的制造方法,用于制造依序积层有载体、中间层、极薄铜层的附载体铜箔,其特征在于:该附载体铜箔于该极薄铜层表面具有粗化处理层,使用含有选自硫酸烷基酯盐、钨、砷中的物质的至少一种以上且由硫酸-硫酸铜构成的电解浴,形成该粗化处理层。
搜索关键词: 载体 铜箔 制造 方法 印刷 线板
【主权项】:
一种附载体铜箔的制造方法,用于制造依序积层有载体、中间层、极薄铜层的附载体铜箔,其特征在于:该附载体铜箔于该极薄铜层表面具有粗化处理层,使用含有选自硫酸烷基酯盐、钨、砷中的物质的至少一种以上且由硫酸-硫酸铜构成的电解浴,形成该粗化处理层。
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