[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个上游流路包括分支成多个下游流路的分支上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置，将经由多个上游流路供给的处理液向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平，一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂旋转轴线旋转，处理液供给系统，包括供给流路、多个上游流路、多个下游流路、多个喷出口，向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液；所述供给流路将处理液向多个所述上游流路引导，多个所述上游流路从所述供给流路分支，将从所述供给流路供给的处理液向多个所述喷出口引导，多个所述喷出口包括主喷出口和多个副喷出口，所述主喷出口向所述基板的上表面中央部喷出处理液，多个所述副喷出口向从所述上表面中央部离开且距所述旋转轴线的距离不同的所述基板的上表面内的多个位置分别喷出处理液，多个所述喷出口分别配置在距所述旋转轴线的距离不同的多个位置，将经由多个所述上游流路供给的处理液向由所述基板保持单元保持的基板的上表面喷出，多个所述上游流路包括与所述主喷出口连接的主上游流路和经由多个所述下游流路与多个所述副喷出口连接的多个副上游流路，多个所述副上游流路都是分支成多个所述下游流路的分支上游流路，在每个所述下游流路设置有所述副喷出口，所述处理液供给系统还包括上游加热器和多个下游加热器，所述上游加热器以上游温度对向所述供给流路供给的处理液进行加热，多个所述下游加热器分别与多个所述副上游流路连接，以比所述上游温度高的下游温度对在多个所述副上游流路内流动的处理液进行加热。