[发明专利]一种术中手术室防辐射屏蔽结构在审
申请号: | 201610092138.8 | 申请日: | 2016-02-19 |
公开(公告)号: | CN107103938A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 沈东纯 | 申请(专利权)人: | 上海黎东射线防护工程有限公司 |
主分类号: | G21F7/005 | 分类号: | G21F7/005;G21F7/00;E04H3/08 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 | 代理人: | 周高 |
地址: | 201507 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种术中手术室防辐射屏蔽结构,其包括楼上手术室屏蔽区和设于其下部的楼下办公区。楼上手术室屏蔽区包括楼上走廊、刀室一、刀室二、前室;楼上走廊内设有位于刀室一与刀室二之间楼上走廊门;前室设于刀室二门的出口处,前室与楼上走廊门之间设有楼上走廊刀室门;刀室二内设有加速器;楼上手术室屏蔽区内设有探视摄像头组合。楼下办公区包括楼下走廊、空调机房、库房和值班室,空调机房、库房和值班室内均设有探视摄像头;刀室一的另一侧设有后室,后室内设有用于监视各摄像头的监视视频;楼上手术室屏蔽区和楼下办公区中均设有警示红灯。本发明的有益效果为本发明治疗效果好、病人受伤害小、康复速度快、复发概率低。 | ||
搜索关键词: | 一种 手术室 防辐射 屏蔽 结构 | ||
【主权项】:
一种术中手术室防辐射屏蔽结构,其包括楼上手术室屏蔽区和楼下办公区,其特征在于,所述楼上手术室屏蔽区包括楼上走廊、设于楼上走廊同侧且相邻设置的刀室一和刀室二、设于楼上走廊尽头的前室;所述刀室一和刀室二分别开设有刀室一门和刀室二门;所述楼上走廊内设有用于将刀室一与刀室二分离开的楼上走廊门,所述楼上走廊门设于刀室一与刀室二之间;所述前室设于刀室二门的出口处,所述前室与楼上走廊门之间设有楼上走廊刀室门;所述刀室二内设有加速器;所述楼上手术室屏蔽区内还设有探视摄像头组合,所述探视摄像头组合包括设于楼上走廊门上部的用于监视楼上走廊内人员的楼上走廊探视摄像头、设于前室内的前室探视摄像头和设于刀室一内的刀室一探视摄像头;所述楼下办公区设于楼上手术室屏蔽区的正下方,所述楼下办公区包括楼下走廊、设于楼下走廊同侧且依次相邻设置的空调机房、库房和值班室,所述空调机房、库房和值班室分别开设有空调机房门、库房门和值班室门,所述空调机房、库房和值班室内分别设有空调机房探视摄像头、库房探视摄像头和值班室探视摄像头;所述楼上手术室屏蔽区上,在刀室一的另一与楼上走廊的相对侧设有后室,所述后室内设有监视视频一和监视视频二,所述监视视频一用于监视楼下办公区内各探视摄像头的情况,所述监视视频二用于监视楼上手术室屏蔽区内各探视摄像头的情况;所述楼上手术室屏蔽区和楼下办公区中均包括用于告诫人员迅速远离的警示红灯。
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