[发明专利]一种大中型圆柱齿轮垂直交叉主轴式滚磨光整加工方法有效

专利信息
申请号: 201610093279.1 申请日: 2016-02-20
公开(公告)号: CN105728858B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 李文辉;杨胜强;李秀红;雷洪;李唯东;谢盼新;李永刚;白小云 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: B23F19/12 分类号: B23F19/12;B23F19/00
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司14101 代理人: 卢茂春
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 一种大中型圆柱齿轮垂直交叉主轴式滚磨光整加工方法,属于机械零件表面光整加工技术领域,其特征在于通过滚筒1的回转运动、齿轮2的回转与摆动运动,使滚抛磨块3与齿轮2各表面产生相对运动和作用力,通过磨料对齿轮齿廓表面的碰撞、滚压、划擦等作用来达到对齿轮表面光整加工的目的。该加工方法能够一次性全方位地实现齿轮各部位去毛刺、抛光及表面力学性能改善,同时能够使齿轮2齿廓棱边形成半径为0.2mm左右的圆角,齿廓表面加工均匀性好,表面粗糙度等级提高1~2级,加工后能在齿廓表面形成残余压应力,齿根部位应力集中改善明显,齿轮的接触疲劳强度和弯曲疲劳强度明显提高。
搜索关键词: 一种 大中型 圆柱齿轮 垂直 交叉 主轴 磨光 加工 方法
【主权项】:
一种大中型圆柱齿轮垂直交叉主轴式滚磨光整加工方法,其特征在于是一种通过滚筒(1)的回转运动、齿轮(2)的回转与摆动运动,使滚抛磨块(3)与齿轮(2)各表面产生相对运动和作用力,从而达到齿廓表面光整加工的目的,其所述的齿轮(2)两端面之间的中间平面为基准平面,齿轮(2)的基准平面通过滚筒(1)的回转轴线时齿轮(2)所处的位置为零位,以齿轮(2)处于零位时,基准平面和齿轮(2)轴线的交点与滚筒(1)轴线的最短距离连线为X轴,在齿轮(2)上建立XYZ直角坐标系,所述的齿轮(2)的回转轴线与滚筒(1)回转轴线在空间上垂直且有一定的距离R,R依据确定,其中df是齿轮(2)齿顶圆的直径,B是齿轮(2)的齿宽,S是滚筒(1)内的中心圆筒直径,a1是当齿轮(2)处于零位时在基准平面上中心圆筒外壁到齿轮(2)齿顶圆之间的距离,a1的最小取值范围控制在50~150mm;其所述的滚筒(1)回转轴线与水平面垂直,滚筒(1)外圆线速度在2~2.5m/s范围内调整,滚筒(1)有效直径依据D=2R+df+2a2确定,其中a2是当齿轮(2)处于零位时在基准平面上滚筒(1)内壁到齿轮(2)齿顶圆之间的距离;其所述的滚抛磨块(3)为球形磨粒,滚抛磨块(3)、水和抛光液总的填充量不应超过滚筒(1)容积的80%;其所述的齿轮(2)能通过调整电机实现调整转速以及正反转,且还能绕Z轴和X轴在一定角度范围内摆动,齿轮(2)在加工时以零位为参考,绕Z轴做角度为正负β/2的摆动,β的取值依据确定,频率为3Hz,齿轮(2)在加工时以零位为参考,绕X轴做角度为正负θ/2的摆动,θ的取值依据棱边倒圆或者齿面改善等加工要求的差异在10°~20°范围内调整,频率为1Hz~3Hz,齿轮(2)没入滚抛磨块(3)的深度h是指齿轮的最下端至滚抛磨块(3)静态时上表面之间的距离,h的取值在0.54mz~0.68mz范围内调整,其中m为模数,z为齿数,齿轮(2)分度圆处线速度在0.1~0.8m/s范围内调整,齿轮(2)靠近滚筒(1)外壁一侧的线速度方向始终朝下;其具体加工步骤如下:1)向滚筒(1)中加入滚抛磨块(3),同时加入水和抛光液,滚抛磨块(3)、水和抛光液总的填充量不应超过滚筒(1)容积的80%;2)将待加工齿轮(2)安装在主轴上,调整主轴部件使齿轮(2)处于零位处,齿轮(2)的回转轴线与滚筒(1)回转轴线在空间上垂直且有一定的距离R,R=(df2)2+(B2)2+S2+a1;]]>3)启动滚筒(1)电机,使滚筒(1)以转速ω1绕回转轴线转动,使滚筒(1)外圆线速度在2~2.5m/s范围内;4)启动主轴电机,使齿轮(2)以转速ω2绕其轴线回转并下降,将齿轮(2)没入滚抛磨块(3)中深度h的大小在0.54mz~0.68mz范围内调整;5)使齿轮(2)绕Z轴及X轴分别按正负β/2和正负θ/2的角度摆动,β的取值依据确定,频率为3Hz;θ的取值为10°~20°,频率为1Hz~3Hz,加工5~10min;6)齿轮(2)停止转动和摆动,将齿轮(2)绕Z轴旋转180°;7)重启主轴电机并使其回转方向与之前相反,齿轮(2)靠近滚筒(1)外壁一侧的线速度方向始终朝下;8)使齿轮(2)绕Z轴及X轴分别按正负β/2和正负θ/2的角度摆动,β的取值依据确定,频率为3Hz;θ的取值为10°~20°,频率为1Hz~3Hz,加工5~10min;9)重复加工步骤6)至8),直到完成齿轮的光整加工。
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