[发明专利]一种对位装置及蒸镀设备有效
| 申请号： | 201610099430.2 | 申请日： | 2016-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN105779933B | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 付文悦;王小虎;藤野诚治 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对位装置及蒸镀设备。所述对位装置，用于对目标物进行对位，包括：导向机构；位于导向机构上的第二磁场发生机构和与所述第二磁场发生机构相对设置的第一磁场发生机构；其中，在所述第二磁场发生机构与第一磁场发生机构相互排斥的状态下，所述第二磁场发生机构沿着所述导向机构滑动，将所述目标物推送到设定位置。所述蒸镀设备包括1‑4组本发明任意一项实施例所提供的对位装置，分别用于对掩膜板的1‑4个角进行对位。本发明所提供的对位装置及蒸镀设备，能够方便快捷地对掩膜板进行对位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 装置 设备 | ||
【主权项】：
1.一种对位装置，用于对目标物进行对位，其特征在于，包括：导向机构；位于导向机构上的第二磁场发生机构和与所述第二磁场发生机构相对设置的第一磁场发生机构；其中，在所述第二磁场发生机构与第一磁场发生机构相互作用力的作用下，所述第二磁场发生机构沿着所述导向机构滑动，将所述目标物推送到设定位置。
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