[发明专利]湿法剥离中防止氮化镓基垂直LED衬底被腐蚀的方法在审

专利信息
申请号: 201610099451.4 申请日: 2016-02-23
公开(公告)号: CN105679889A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 李国强 申请(专利权)人: 河源市众拓光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/306
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 李健富
地址: 517000 广东省河源市高新技术开*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供湿法剥离中防止氮化镓基垂直LED衬底被腐蚀的方法,该方法用于防止氮化镓基垂直LED片硅腐蚀液湿法剥离过程中不被腐蚀,该氮化镓基垂直LED片自下至上依次由硅衬底、LED外延层和金属衬底复合而成;该方法依次包括清洗、旋涂表面处理剂、旋涂表面处理剂光刻胶、刷涂光刻胶和烘干,以在金属衬底层上依次形成表面处理剂层以及在该氮化镓基垂直LED片外形成光刻胶层步骤。该方法使用的原料均可市售,原料成本低廉;该方法在氮化镓基垂直LED片衬底在湿法剥离过程中不易损伤;该方法能更有效地防止外延层的翘曲,减少了裂纹的产生。
搜索关键词: 湿法 剥离 防止 氮化 垂直 led 衬底 腐蚀 方法
【主权项】:
湿法剥离中防止氮化镓基垂直LED衬底被腐蚀的方法,包括以下步骤:1)清洗:将氮化镓基垂直LED片依次置于丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗;取出后经去离子水清洗,用氮气吹干;该氮化镓基垂直LED片自下至上依次由硅衬底、LED外延层和金属衬底复合而成;2)旋涂表面处理剂:在金属衬底面中心滴加表面处理剂,以1000rpm预转后再以3000rpm旋转使表面处理剂在金属衬底上分散均匀;3)旋涂光刻胶:在金属衬底面中心滴加正性光刻胶,以1000rpm预转后再以3000rpm旋转使正性光刻胶在金属衬底上分散均匀;4)刷涂光刻胶:用刷子将金属衬底的侧面刷上正性光刻胶;使金属衬底侧面封口;5)烘干:将步骤4)处理后的氮化镓基垂直LED片先于105‑115℃干燥后再于135‑145℃烘干。
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