[发明专利]反应性溅射装置有效

专利信息
申请号: 201610100959.1 申请日: 2016-02-24
公开(公告)号: CN105908138B 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 尹炳汉;吴芝瑛;黄在君 申请(专利权)人: 亚威科股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/56;C23C14/08
代理公司: 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 代理人: 郑青松
地址: 韩国大*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种反应性溅射装置,包括:基板搬送部,搬送基板;及工序腔室,对通过所述基板搬送部搬送的基板,执行反应性溅射工序,所述工序腔室,包括:2个以上的第1阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜;及1个以上的第2阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜。
搜索关键词: 反应 溅射 装置
【主权项】:
1.一种反应性溅射装置,其特征在于,包括:基板搬送部,搬送基板;及工序腔室,对通过所述基板搬送部搬送的基板,执行反应性溅射工序,所述工序腔室,包括:2个以上的第1阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜;及1个以上的第2阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜;所述基板的第1区域被定义为蒸镀所述第1氧化物薄膜的所述基板的前面整体,所述基板的第2区域被定义为所述基板的上部与下部边缘部分之间的中间部分;所述2个以上的第1阴极模块包括长度大于所述基板的第1目标,所述1个以上的第2阴极模块包括长度小于所述第1目标的第2目标。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚威科股份有限公司,未经亚威科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610100959.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top