[发明专利]反应性溅射装置有效
申请号: | 201610100959.1 | 申请日: | 2016-02-24 |
公开(公告)号: | CN105908138B | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 尹炳汉;吴芝瑛;黄在君 | 申请(专利权)人: | 亚威科股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/08 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种反应性溅射装置,包括:基板搬送部,搬送基板;及工序腔室,对通过所述基板搬送部搬送的基板,执行反应性溅射工序,所述工序腔室,包括:2个以上的第1阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜;及1个以上的第2阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜。 | ||
搜索关键词: | 反应 溅射 装置 | ||
【主权项】:
1.一种反应性溅射装置,其特征在于,包括:基板搬送部,搬送基板;及工序腔室,对通过所述基板搬送部搬送的基板,执行反应性溅射工序,所述工序腔室,包括:2个以上的第1阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜;及1个以上的第2阴极模块,用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜;所述基板的第1区域被定义为蒸镀所述第1氧化物薄膜的所述基板的前面整体,所述基板的第2区域被定义为所述基板的上部与下部边缘部分之间的中间部分;所述2个以上的第1阴极模块包括长度大于所述基板的第1目标,所述1个以上的第2阴极模块包括长度小于所述第1目标的第2目标。
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