[发明专利]具有用于反应物质的配给器的照明装置有效
申请号: | 201610105802.8 | 申请日: | 2016-02-25 |
公开(公告)号: | CN105925957B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | D·维尔德曼;R·A·M·希克梅特;T·范博梅尔;W·E·J·范克腾 | 申请(专利权)人: | 昕诺飞控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱;郑振 |
地址: | 荷兰艾恩*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种照明装置(100、300、400)。该照明装置包括光源(110、310、410)、至少局部透光的包封件(120、320、420)以及配给器(140、340、440)。包封件被配置成限定密封空间(130、330、430),在该密封空间中配置有光源的至少一部分。此外,配给器包括化学反应物质且适于将该化学反应物质中的至少一些化学反应物质逐渐释放到密封空间,从而减少可能在密封空间中存在的污染物以及副产物。 | ||
搜索关键词: | 具有 用于 反应 物质 配给 照明 装置 | ||
【主权项】:
一种照明装置(100、300、400),其包括:光源(110、310、410);至少局部透光的包封件(120、320、420),其配置成限定密封空间(130、330、430),在所述密封空间中配置有至少一部分所述光源;以及配给器(140、340、440),其配置于所述密封空间中,所述配给器包括氧化物质;其中所述配给器适于将所述氧化物质中的至少一些氧化物质逐渐释放到所述密封空间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的