[发明专利]一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液有效
| 申请号： | 201610115165.2 | 申请日： | 2016-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN105619267B | 公开（公告）日： | 2018-02-02 |
| 发明（设计）人： | 徐勤志;陈岚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | B24D3/34 | 分类号： | B24D3/34;B24D3/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液，其中，抛光粒子包括研磨颗粒；以及，嫁接于所述研磨颗粒上预设数量、预设聚合度和预设类型的表面活性剂分子。由上述内容可知，本发明提供的技术方案，通过在研磨颗粒上嫁接表面活性剂分子，以降低抛光粒子吸附在研磨基材表面的几率，提高研磨效果。此外，针对不同的研磨基材设计匹配的研磨颗粒，以及在该研磨颗粒上设计相匹配数量、聚合度的表面活性剂分子，通过此针对性的设计，可优化抛光粒子的性能，以及进一步提高研磨效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 粒子 设计 方法 研磨 | ||
【主权项】：
一种抛光粒子的设计方法，其特征在于，包括：步骤S1、根据研磨基材的材质确定研磨颗粒的种类和尺寸；步骤S2、分析所述研磨颗粒分别嫁接不同种类的表面活性剂分子时，在研磨液中的分散稳定性和对所述研磨基材的研磨效果，确定最优表面活性剂分子；步骤S3、分析所述研磨颗粒分别嫁接不同聚合度的所述最优表面活性剂分子时，在研磨液中的分散稳定性和对所述研磨基材的研磨效果，确定所述最优表面活性剂分子的最优聚合度；步骤S4、分析所述研磨颗粒分别嫁接不同数量的所述最优表面活性剂分子、且聚合度为所述最优聚合度时，在研磨液中的分散稳定性和对所述研磨基材的研磨效果，确定所述最优表面活性剂分子的最优数量；步骤S5、根据所述最优表面活性剂分子、嫁接数量和聚合度对所述研磨颗粒进行嫁接为抛光粒子。
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