[发明专利]带有台阶高度的微米级光栅校准样片在审
| 申请号： | 201610115896.7 | 申请日： | 2016-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN105737879A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 赵琳;李锁印;韩志国;许晓青;冯亚南;梁法国;赵革艳;赵新宇;郑晓敏;孙悦 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
| 主分类号： | G01D18/00 | 分类号： | G01D18/00 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 王占华 |
| 地址： | 050051 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种带有台阶高度的微米级光栅校准样片，涉及微纳米测量类仪器的校准领域。包括基底、以及在基底上设置的至少一组同一周期尺寸的光栅结构和覆盖在光栅结构表面的金属层；所述一组同一周期尺寸的光栅结构包括同一周期尺寸的一维X方向栅条结构、同一周期尺寸的一维Y方向栅条结构和同一周期尺寸的二维栅格结构，所述一维X方向栅条结构和一维Y方向栅条结构中的若干个栅条分别沿X方向和Y方向均等排列，所述二维栅格结构中的若干个栅格沿X方向和Y方向均等排列，所述栅条和栅格均为凸起的台阶高度结构。该样片具有多种量值、多种结构，避免了校准过程中频繁更换样片，提高了校准效率。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 台阶 高度 微米 光栅 校准 样片 | ||
【主权项】：
一种带有台阶高度的微米级光栅校准样片，其特征在于：包括基底（1）、以及在基底（1）上设置的至少一组同一周期尺寸的光栅结构（2）和覆盖在光栅结构（2）表面的金属层；所述一组同一周期尺寸的光栅结构（2）包括同一周期尺寸的一维X方向栅条结构（3）、同一周期尺寸的一维Y方向栅条结构（4）和同一周期尺寸的二维栅格结构（5），所述一维X方向栅条结构（3）和一维Y方向栅条结构（4）中的若干个栅条分别沿X方向和Y方向均等排列，所述二维栅格结构（5）中的若干个栅格沿X方向和Y方向均等排列，所述栅条和栅格均为凸起的台阶高度结构。
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