[发明专利]定量X射线分析-基体厚度校正有效
| 申请号： | 201610119027.1 | 申请日： | 2016-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105937890B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 查拉兰波斯·扎尔卡达斯;亚历山大·哈尔陈科;彼得罗内拉·埃米伦蒂安娜·赫格曼;米伦·加特什基;瓦尔瑟如斯·凡丹霍根霍夫;迪克·林凯珀 | 申请（专利权）人： | 马尔文帕纳科公司 |
| 主分类号： | G01B15/02 | 分类号： | G01B15/02;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡秋玲;郑霞 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本申请涉及定量X射线分析‑基体厚度校正。通过进行确定样本的元素成分的X射线荧光测量和通过测量处于能量E的X射线在没有偏转的情况下直接穿过样本透射的透射强度进行校正测量来实现定量X射线分析。通过以与样本的表面的入射角ψ1的条件下将处于能量E的X射线从X射线源引导到样本并在相应于预先确定的组分的X射线衍射峰值的出射角ψ2处使用X射线检测器测量在能量E处的衍射X射线的所测量的强度Id(θfl)来在透射中进行X射线衍射测量。使用在X射线衍射测量中的所测量的X射线强度、校正测量和根据元素成分计算的样本的质量衰减系数及元素的质量衰减系数来得到基体校正的X射线强度。 | ||
| 搜索关键词： | 定量 射线 分析 基体 厚度 校正 | ||
【主权项】：
1.一种X射线分析的方法，包括：进行X射线荧光测量以确定样本的元素成分；通过测量处于能量E的X射线在没有偏转的情况下直接穿过所述样本透射的透射强度来进行X射线的校正测量；通过以与所述样本的表面成入射角ψ1的条件下将处于所述能量E的X射线从X射线源引导到样本，并在相应于预先确定的组分的X射线衍射峰值的出射角ψ2处使用X射线检测器测量处于所述能量E的衍射X射线的测量强度Id(θfl)来在透射中进行X射线衍射测量；以及使用在所述X射线衍射测量中所测量的X射线强度、所述校正测量和根据所述元素成分计算的所述样本的质量衰减系数及所述元素的质量衰减系数来计算经基体校正的X射线强度。
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