[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置包括：旋转台，其以能够旋转的方式设置于真空容器内，能够载置基板；第1反应气体供给部，其能够向旋转台的表面供给第1反应气体；第2反应气体供给部，其沿着旋转台的周向与第1反应气体供给部分开地设置，能够向旋转台的表面供给与第1反应气体发生反应的第2反应气体；活化气体供给部，其沿着旋转台的周向与第1反应气体供给部以及第2反应气体供给部分开地设置，包括能够向旋转台的表面供给被活化了的含氟气体的喷出部，活化气体供给部包括：配管，其设置于比喷出部靠上游侧的位置，能够向喷出部供给含氟气体；1个或多个含氢气体供给部，其设置于配管，能够向配管的内部供给含氢气体。

主权项

1.一种基板处理装置，其中，该基板处理装置包括：旋转台，其以能够旋转的方式设置于真空容器内，能够载置基板；第1反应气体供给部，其能够向所述旋转台的表面供给第1反应气体；第2反应气体供给部，其沿着所述旋转台的周向与所述第1反应气体供给部分开地设置，能够向所述旋转台的表面供给与所述第1反应气体发生反应的第2反应气体；活化气体供给部，其沿着所述旋转台的周向与所述第1反应气体供给部以及所述第2反应气体供给部分开地设置，所述活化气体供给部包括：喷出部，其能够向所述旋转台的表面供给被活化了的含氟气体；配管，其设置于比所述喷出部靠上游侧的位置，能够向所述喷出部供给所述含氟气体；1个或多个含氢气体供给部，其设置于所述配管，能够向所述配管的内部供给含氢气体，其中，该基板处理装置还具有控制部，该控制部对从所述含氢气体供给部供给的所述含氢气体的流量进行控制，以对从所述喷出部向所述旋转台和所述喷出部之间的空间供给的含氟气体的浓度的面内分布进行控制，其中，所述活化气体供给部还包括等离子体生成部，该等离子体生成部经由所述配管与所述喷出部连接，用于使所述含氟气体活化，所述含氢气体供给部设置于所述喷出部和所述等离子体生成部之间。