[发明专利]一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法有效
申请号: | 201610120003.8 | 申请日: | 2016-03-03 |
公开(公告)号: | CN105679881B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 赵岳;刘洋;冯月;沈介圣;王林军;梁小燕;闵嘉华;史伟民 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人: | 陆聪明 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法,该电池结构自下至上依次为衬底/Ti‑TiN‑Mo背电极/Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层/Cd1‑xZnxS阻挡层i‑ZnO/AlZnO窗口层/Al(Ni)前电极,该方法步骤为(1)衬底清洗及预处理;(2)在衬底上制备Ti/TiN/Mo背电极;(3)在Ti/TiN/Mo背电极上制备Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层;(4)在吸收层上制备Cd1‑xZnxS阻挡层;(5)在Cd1‑xZnxS阻挡层上依次淀积i‑ZnO薄膜、AlZnO薄膜,制成i‑ZnO/AlZnO窗口层;(6)采用真空热蒸法在i‑ZnO/AlZnO窗口层上蒸镀Al(Ni) 前电极,获得铜铟硫基薄膜太阳能电池。.本发明制备的铜铟硫基薄膜太阳能电池,该电池的背电极的与玻璃衬底及吸收层薄膜之间粘接的粘附性强,不易剥落,可靠性高,各层之间的串联电阻小,能提高光电能量转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟硫基 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟硫基薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述薄膜太阳能电池结构自下至上依次为:衬底/Ti/TiN/Mo背电极/Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层/Cd1‑xZnxS阻挡层i‑ZnO/Al:ZnO窗口层/Al(Ni)前电极,该方法具有以下步骤:(1).衬底清洗及预处理:依次采用丙酮、乙醇和去离子水对衬底各超声清洗15min,再采用Ar等离子体对衬底进行刻蚀;(2).在衬底上制备Ti/TiN/Mo背电极:采用磁控溅射法在衬底上依次制备Ti/TiN/Mo背电极的底层Ti薄膜、TiN薄膜、Mo薄膜,制成Ti/TiN/Mo背电极;(3).在Ti/TiN/Mo背电极上制备Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层:首先使用布里奇曼法分别制备Cu1‑xNaxInS2、CuInS2和Cu1‑xAgxInS2多晶锭,粉碎后,分别称取1g放入钨舟中作蒸发源;接着采用常规真空热蒸发法在Ti/TiN/Mo背电极上依次淀积Cu1‑xNaxInS2薄膜、CuInS2薄膜,其中,Cu1‑xNaxInS2薄膜厚度为50‑100nm,CuInS2薄膜厚度为2‑3um,然后将淀积后的Cu1‑xNaxInS2/CuInS2薄膜放入在含硫气氛下的退火设备中进行退火,形成Cu1‑xNaxInS2/CuInS2复合薄膜,采用溴甲醇溶液对Cu1‑xNaxInS2/CuInS2复合薄膜腐蚀;采用常规真空热蒸发法在腐蚀后的Cu1‑xNaxInS2/CuInS2复合薄膜上沉积Cu1‑xAgxInS2薄膜层,然后将淀积后的Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2放入退火设备中进行退火,再采用溴甲醇溶液腐蚀,形成Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层;(4).在吸收层上制备Cd1‑xZnxS阻挡层:称取20mL浓度为0.2mol/L的醋酸镉、20mL浓度为0.1mol/L醋酸锌、2mL浓度为1mol/L醋酸铵和0.5ml浓度为1mol/L氨水溶液,用控温磁力搅拌器在65℃、200r/min的转速下磁力搅拌1min;将搅拌后的溶液滴加在Cu1‑xNaxInS2/CuInS2/Cu1‑xAgxInS2吸收层表面,然后加入20mL浓度为0.2mol/L硫脲,在磁力搅拌下,保持10‑20min,取出衬底,用去离子水冲洗,真空烘干得到Cd1‑xZnxS阻挡层;(5).在Cd1‑xZnxS阻挡层上依次淀积i‑ZnO薄膜、Al:ZnO薄膜,制成i‑ZnO/Al:ZnO窗口层:采用磁控溅射法在阻挡层上依次淀积i‑ZnO薄膜、Al:ZnO薄膜,形成i‑ZnO/Al:ZnO窗口层,其中,i‑ZnO薄膜厚度为10‑50nm,Al:ZnO薄膜厚度为500‑700nm;(6).在i‑ZnO/Al:ZnO窗口层上制备前电极:称取0.1g质量的Al(Ni),放在真空蒸镀膜机中的蒸发钨舟中,将i‑ZnO/Al:ZnO窗口层放在工件架上的栅极掩膜版上,加热至预设温度后,稳定10‑30min控制真空蒸镀膜机参数,以预设的蒸镀速率开始蒸镀,直至蒸发钨舟中的Al(Ni)蒸发完,在i‑ZnO/Al:ZnO窗口层上形成Al(Ni)前电极,再放入真空退火设备中进行真空退火,退火温度300~450℃,退火时间60~120分钟,获得铜铟硫基薄膜太阳能电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610120003.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光二极管及其制备方法
- 下一篇:一种光解水用大面积钒酸铋薄膜的简易制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的