[发明专利]单晶硅的生长方法及其制备的单晶硅锭在审

专利信息
申请号: 201610120879.2 申请日: 2016-03-03
公开(公告)号: CN107151818A 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 肖德元;张汝京 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: C30B15/04 分类号: C30B15/04;C30B29/06
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 金华
地址: 201306 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其中,该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。本发明亦提供一种以该单晶硅制备晶圆的方法。
搜索关键词: 单晶硅 生长 方法 及其 制备
【主权项】:
一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其特征在于:该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。
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