[发明专利]单晶硅的生长方法及其制备的单晶硅锭在审
申请号: | 201610120879.2 | 申请日: | 2016-03-03 |
公开(公告)号: | CN107151818A | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 肖德元;张汝京 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | C30B15/04 | 分类号: | C30B15/04;C30B29/06 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 金华 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其中,该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。本发明亦提供一种以该单晶硅制备晶圆的方法。 | ||
搜索关键词: | 单晶硅 生长 方法 及其 制备 | ||
【主权项】:
一种单晶硅的生长方法,是以柴氏拉晶法,将置于坩埚内的硅原料熔化而形成熔体,并提拉该熔体而使单晶硅生长的方法,其特征在于:该硅原料包括表面生长氮化硅并掺杂氘的硅片及多晶硅碎块;在形成熔体时通入包括氩气的气体;以及在提拉步骤中施加磁场。
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