[发明专利]一种高分子表面活性剂的结构稳定性判断方法及系统有效
| 申请号： | 201610121239.3 | 申请日： | 2016-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105808933B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 徐勤志;陈岚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G16C20/00 | 分类号： | G16C20/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高分子表面活性剂的结构稳定性判断方法，包括：获取目标表面活性剂的分子构型、分子量及多个不同预设温度；计算得到所述目标表面活性剂的分子内相关函数的表达式；采用PY近似，建立包含所述目标表面活性剂的直接相关函数和总相关函数的闭合方程；建立包含所述目标表面活性剂的直接相关函数、总相关函数以及分子内相关函数的PRISM积分方程；计算所述闭合方程和所述PRISM积分方程，得到对应所述预设温度直接相关函数的表达式和总相关函数的表达式；计算得到所述预设温度对应的目标表面活性剂的X‑光散射强度；根据所述多个不同预设温度一一对应的所述X‑光散射强度，判断所述目标表面活性剂的结构稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分子 表面活性剂 结构 稳定性 判断 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种高分子表面活性剂的结构稳定性判断方法，其特征在于，包括：获取表面活性剂的分子构型、分子量和多个不同预设温度；针对每一预设温度，分别执行以下步骤，直到获得与所述多个不同预设温度一一对应的X‑光散射强度：根据所述表面活性剂的分子构型和分子量，计算得到所述表面活性剂的分子内相关函数的表达式；采用PY近似，建立包含所述表面活性剂的直接相关函数和总相关函数的闭合方程；建立所述表面活性剂高分子参考作用点模型积分方程；根据所述分子构型及预设温度，计算所述闭合方程和所述高分子参考作用点模型积分方程，得到对应所述预设温度的直接相关函数的表达式和总相关函数的表达式；根据所述分子内相关函数的表达式、直接相关函数的表达式和总相关函数的表达式，计算得到对应所述预设温度的表面活性剂的X‑光散射强度；根据与所述多个不同预设温度一一对应的所述X‑光散射强度，判断所述表面活性剂的结构稳定性；其中，所述根据与所述多个不同预设温度一一对应的所述X‑光散射强度，判断所述表面活性剂的结构稳定性，包括：获取所述多个不同预设温度一一对应的所述X‑光散射强度；判断所述多个不同预设温度一一对应的X‑光散射强度的聚合峰峰值变化最大值是否小于第一阈值，如果是，进行下一步骤；如果否，则所述表面活性剂结构不稳定；判断所述多个不同预设温度一一对应的X‑光散射强度的聚合峰的位置变化最大值是否小于第二阈值，如果是，进行下一步骤；如果否，则所述表面活性剂结构不稳定；判断所述多个不同预设温度一一对应的X‑光散射强度的无定形峰的位置变化最大值是否小于第三阈值，如果是，所述表面活性剂结构稳定，如果否，则所述表面活性剂结构不稳定。
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