[发明专利]定量X射线分析-比率校正有效
| 申请号： | 201610121518.X | 申请日： | 2016-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105938112B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 瓦尔瑟如斯·凡丹霍根霍夫;查拉兰波斯·扎尔卡达斯 | 申请（专利权）人： | 马尔文帕纳科公司 |
| 主分类号： | G01N23/207 | 分类号： | G01N23/207 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 胡秋玲;郑霞 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及定量X射线分析‑比率校正。X射线分析的方法在透射中测量X射线衍射。为了执行定量测量，稍微远离衍射峰值进行背景测量，且所测量的强度的比用于校正样本成分中的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 定量 射线 分析 比率 校正 | ||
【主权项】：
一种X射线分析的方法，包括：通过在与样本的表面成入射角ψ1的条件下将处于能量E的X射线从X射线源引导到所述样本并使用处于与所述样本的所述表面成出射角ψ2的X射线检测器测量处于所述能量E的衍射X射线的衍射强度Id(θd)来在透射中进行X射线衍射测量，在所述入射角和所述出射角之间的差2θd相应于预先确定的组分的X射线衍射峰值；以及通过测量在所述能量E处的X射线的背景强度Id(θbg)来进行X射线的校正测量，在所述入射角和所述出射角之间的差2θbg与相应于所述X射线衍射峰值的所述差2θd偏离0.2到5°；以及根据所述衍射强度和所述背景强度的强度比计算所述预先确定的组分的量。
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