[发明专利]一种光刻胶用显影液及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610122642.8 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN105589304B | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 高小云;刘兵;朱一华 | 申请（专利权）人： | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;汪青 |
| 地址： | 215168 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶用显影液，其由强碱缓冲体系、分散剂和水组成，所述的强碱缓冲体系与所述的分散剂的质量比为2~5:1，所述的分散剂的质量为所述的显影液总质量的0.5%~5%，所述的强碱缓冲体系为选自四甲基氢氧化铵、氢氧化钾、硼酸钾、碳酸钾、碳酸钠中的任意两种。该显影液可应用于各种膜厚的光刻胶，显影图案分辨率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 显影液 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种光刻胶用显影液，其特征在于：其由强碱缓冲体系、分散剂和水组成，所述的强碱缓冲体系与所述的分散剂的质量比为2~5:1，所述的分散剂的质量为所述的显影液总质量的0.5%~5%，所述的强碱缓冲体系为选自四甲基氢氧化铵、氢氧化钾、硼酸钾、碳酸钾、碳酸钠中的任意两种。
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