[发明专利]一种利用石墨烯玻璃低成本大面积制备氮化铝薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201610124592.7 申请日: 2016-03-04
公开(公告)号: CN105731825B 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 刘忠范;陈召龙;李晋闽;曾清;张艳锋;魏同波 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种利用石墨烯玻璃低成本大面积制备氮化铝薄膜的方法。包括:1)在玻璃基底表面进行石墨烯薄膜的沉积,得到表面覆盖有石墨烯的玻璃;2)在所述表面覆盖有石墨烯的玻璃的石墨烯表面直接进行高温AlN薄膜的沉积,得到AlN薄膜。所述玻璃为耐高温玻璃,选自下述任意一种:石英玻璃、蓝宝石玻璃和耐高温硼硅玻璃等。本发明先在廉价石英玻璃、蓝宝石等耐高温玻璃上生长出石墨烯,然后将氮化铝薄膜一步法直接生长在石墨烯缓冲层上,无需经过低温氮化铝生长过程,直接大幅度降低了AlN薄膜生产成本。得到的AlN可以进一步加工成LED器件,基于石墨烯非常好的热导率,制成的LED芯片可以避免使用过程中的过热问题。
搜索关键词: 一种 利用 石墨 玻璃 低成本 大面积 制备 氮化 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种生长AlN薄膜的方法,包括下述步骤:1)在玻璃基底表面进行石墨烯薄膜的沉积,得到表面覆盖有石墨烯的玻璃;2)在所述表面覆盖有石墨烯的玻璃的石墨烯表面直接进行高温AlN薄膜的沉积,得到AlN薄膜;所述玻璃为耐高温玻璃;所述石墨烯薄膜的沉积通过常压化学气相沉积实现;所述常压化学气相沉积中,沉积环境为常压环境;沉积温度为1000℃‑1100℃;沉积时间为60 min‑600 min;载气为由氩气和氢气组成的混合气,其中氩气与氢气的流量比为1‑10:1,氩气的流量为100‑1000sccm,氢气的流量为50‑500sccm;碳源为甲烷或乙烯,流量为10‑50sccm。
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