[发明专利]一种有机磷光器件的制备方法

摘要

本发明提供一种有机磷光器件的制备方法，该方法的制备步骤如下将ITO透明导电玻璃基片处理后置于真空腔内，抽真空；在基片上真空蒸镀HATCN层，形成空穴注入层；在空穴注入层上蒸镀由TAPC或TCTA形成的复合层；在复合层上采用双源蒸镀的方法，将DBF‑DMS作为主体材料，fac‑Ir(iprpmi)3作为染料制备有机发光层；在有机发光层上蒸镀TmPyPB，形成电子传输层，或者在有机发光层上依次蒸镀DBF‑DMS和Alq3形成空穴阻挡层和电子传输层；在电子传输层上依次真空蒸镀Liq层和Al层，形成阴极，即得有机磷光器件。本发明的制备方法易于制作、重复性好，制备得到的有机磷光器件的效率高。

主权项

一种有机磷光器件的制备方法，其特征在于该方法的制备步骤如下：第一步：将ITO透明导电玻璃基片在清洗剂中超声处理后，进行清洗，再烘烤至干燥，然后用紫外灯和臭氧进行处理，再把处理过的ITO透明导电玻璃基片置于真空腔内，抽真空至3.0×10‑4～4.0×10‑4Pa；第二步：在ITO透明导电玻璃基片上真空蒸镀HATCN层，形成空穴注入层，其中蒸镀速率为0.3 Å/s，镀膜厚度为10 nm；第三步：在空穴注入层上蒸镀由TAPC或TCTA形成的具有空穴传输层和电子阻挡作用的复合层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为45nm，或者在空穴注入层上依次蒸镀NPB和TCTA形成空穴传输层和电子阻挡层，其中NPB的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为35nm，TCTA的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为10 nm；第四步：在第三步制备得到的复合层或电子阻挡层上采用双源蒸镀的方法，将DBF‑DMS作为主体材料，fac‑Ir(iprpmi)3作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为20 nm，或者将DBF‑DMS作为主体材料，fac‑Ir(iprpmi)3和PO‑01作为染料制备有机发光层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为20nm；第五步：在第四步制备得到的有机发光层上蒸镀TmPyPB，形成具有空穴阻挡和电子传输作用的电子传输层，其中蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为45nm，或者在有机发光层上依次蒸镀DBF‑DMS和Alq3形成空穴阻挡层和电子传输层，其中DBF‑DMS的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为10 nm，Alq3的蒸镀速率为2Å/s，镀膜厚度为35nm；第六步：在第五步中制备得到的电子传输层上依次真空蒸镀Liq层和Al层，形成阴极，即得有机磷光器件，其中Liq层的厚度为2nm，Al层的厚度为120nm。