[发明专利]利用热焦点偏移补偿生产三维工件的方法和装置有效
| 申请号： | 201610132941.X | 申请日： | 2016-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN105965015B | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 迪特尔·施瓦策;安德里亚·威斯纳;东尼·亚当·克罗利 | 申请（专利权）人： | SLM方案集团股份公司 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B28B1/00;B33Y30/00;B33Y10/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 周艳玲;王琦 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明公开了利用热焦点偏移补偿生产三维工件的方法和装置，其中用于生产三维工件的方法包括以下步骤：将原材料粉末施加到载架(16)上；以及通过照射单元(18)将电磁或粒子辐射选择性地照射到施加于所述载架(16)上的所述原材料粉末上，以便通过生成层构造方法由所述载架(16)上的所述原材料粉末生产所述工件，其中所述照射单元(18)包括辐射源(24)和多个光学元件(30，32，34，35)。根据所述照射单元(18)的至少一个光学元件(30，32，34，35)的至少一种光学性能的操作温度相依变化来控制所述照射单元(18)的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 焦点 偏移 补偿 生产 三维 工件 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于生产三维工件的方法，所述方法包括以下步骤：将原材料粉末施加到载架(16)上；通过照射单元(18)将电磁或粒子辐射选择性地照射到施加于所述载架(16)上的所述原材料粉末上，以便通过生成层构造方法由所述载架(16)上的所述原材料粉末生产所述工件，所述照射单元(18)包括辐射源(24)和多个光学元件(30，32，34，35)，所述辐射源(24)发射辐射束(22)；其中根据所述照射单元(18)的至少一个光学元件(30，32，34，35)的至少一种光学性能的操作温度相依变化来控制所述照射单元(18)的操作，其中所述操作温度相依变化对应于所述辐射束(22)的焦点位置在沿着所述辐射束(22)的光路的方向上的操作温度相依偏移，并且其中所述照射单元(18)的操作被控制以补偿所述操作温度相依偏移。
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