[发明专利]垂直存储器件有效

专利信息
申请号: 201610133440.3 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN106409831B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 黄盛珉;金知勇;边大锡 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11563 分类号: H01L27/11563;H01L27/11568
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王新华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供了垂直存储器件。一种垂直存储器件包括:多个栅电极,分别在多个水平处,在基本垂直于基板的顶表面的垂直方向上彼此间隔开;沟道,在基板上在垂直方向上延伸并穿过栅电极;和多个第一接触插塞,在垂直方向上延伸并分别接触栅电极。至少一个第二接触插塞形成在该多个栅电极当中的第一栅电极上,并在垂直方向上延伸。
搜索关键词: 垂直 存储 器件
【主权项】:
一种垂直存储器件,包括:多个栅电极,分别在多个水平处,在垂直于基板的顶表面的垂直方向上彼此间隔开;沟道,在所述基板上在所述垂直方向上延伸并穿过所述栅电极;多个第一接触插塞,在所述垂直方向上延伸并分别接触所述多个栅电极;和至少一个第二接触插塞,在所述多个栅电极当中的第一栅电极上,所述至少一个第二接触插塞在所述垂直方向上延伸。
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