[发明专利]蚀刻剂组合物、液晶显示器阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610134402.X 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN106011859B 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 李铉奎;金炼卓;梁圭亨;郑成珉 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;G02F1/1362
代理公司: 11410 北京市中伦律师事务所 代理人: 石宝忠
地址: 韩国全*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及用于蚀刻铜基金属层的蚀刻剂组合物,其基于所述组合物的总重量包括:(a)10‑25wt%的过氧化氢;(b)1‑10wt%的柠檬酸;(c)0.05‑2wt%的唑化合物;(d)0.001‑0.1wt%的磷酸盐化合物;(e)1‑5wt%的多元醇表面活性剂;和(f)余量水,并且涉及蚀刻方法和用于使用所述蚀刻剂组合物制造液晶显示器阵列基板的方法。
搜索关键词: 蚀刻 组合 液晶显示器 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
1.用于蚀刻铜基金属层的蚀刻剂组合物,其基于所述组合物的总重量包括:10-25wt%的过氧化氢(a);1-10wt%的柠檬酸(b);0.05-2wt%的唑化合物(c);0.005-0.05wt%的磷酸盐化合物(d);1-5wt%的多元醇表面活性剂(e);和余量的水(f),其中所述磷酸盐化合物为磷酸二氢铵,并且其中所述唑化合物为5-甲基四唑。/n
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