[发明专利]发光器件及其制作方法

摘要

本发明提供了发光器件及其制作方法。该制作方法包括以下步骤：在基板上形成像素隔离结构，像素隔离结构具有多个相互隔离的像素区域，且像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面或疏水性表面；在与像素区域对应的基板上设置光提取溶液，形成光提取层，光提取溶液包括基体材料、散射粒子和溶剂，且当像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面时，光提取溶液为疏水性溶液，当像素隔离结构的裸露表面为疏水性表面时，光提取溶液为亲水性溶液。上述方案能够在形成光提取层的步骤中光提取溶液不会残留在像素隔离结构的上表面或者侧壁，而是在重力作用下回流到像素区域中，进而有效地防止相邻像素区域之间的混色，提高了发光器件的发光效率。

主权项

1.一种发光器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在基板上形成像素隔离结构，所述像素隔离结构具有多个相互隔离的像素区域，且所述像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面或疏水性表面；在与所述像素区域对应的所述基板上设置光提取溶液，形成光提取层，所述光提取溶液包括基体材料、散射粒子和溶剂，且当所述像素隔离结构的裸露表面为亲水性表面时，所述光提取溶液为疏水性溶液，当所述像素隔离结构的裸露表面为疏水性表面时，所述光提取溶液为亲水性溶液，形成所述像素隔离结构的步骤包括：形成隔离基体，所述隔离基体的裸露表面构成所述像素隔离结构的裸露表面，或形成所述像素隔离结构的步骤包括：形成隔离基体；形成设置于所述隔离基体上表面和侧表面的隔离膜，所述隔离膜的表面构成所述像素隔离结构的裸露表面。