[发明专利]一种氮化铝陶瓷覆铜板及其制备方法有效
| 申请号： | 201610136483.7 | 申请日： | 2016-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN105777210B | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 陈波;王德苗;金浩 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H05K3/40 | 分类号： | H05K3/40;C04B41/90 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 韩介梅 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氮化铝陶瓷覆铜板，该覆铜板依次由氮化铝陶瓷基底、激光活化层、高能溅射铜层、低能铜层四层结构组成。本发明还公开了该种氮化铝陶瓷覆铜板的制备方法，步骤如下：A、对氮化铝陶瓷基底进行清洗；B、使用激光束扫射氮化铝陶瓷基底表面，制备激光活化层；C、在上述激光活化层上利用磁控溅射在低气压高电压条件下沉积高能溅射铜层；D、在高能溅射铜层上采用溅射镀铜法、化学镀铜法或蒸发镀铜法制备低能铜膜，得到氮化铝陶瓷覆铜板。本发明相比一般氮化铝陶瓷金属化的结构，具有制备过程无污染，膜层质量高，结合强度大，结构简单稳定，工艺兼容性强等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化铝陶瓷覆铜板 氮化铝陶瓷 铜层 激光活化层 高能溅射 制备 基底 高电压条件 工艺兼容性 化学镀铜法 磁控溅射 基底表面 四层结构 制备过程 低气压 镀铜法 覆铜板 激光束 金属化 沉积 镀铜 溅射 膜层 铜膜 清洗 蒸发 | ||
【主权项】：
1.一种氮化铝陶瓷覆铜板，其特征在于，依次由氮化铝陶瓷基底层、激光活化层、高能溅射铜膜、低能铜膜组成，所述的激光活化层由激光束在氮化铝陶瓷基底层上扫射而成，激光束的扫射速度为0.5 ~100mm/s，扫描间隔为0.001~0.01mm；所述的激光为波长为157nm到10.6μm之间的一种或多种激光混合；激光光斑大小为0.005~0.01mm，激光功率为10~500W；所述的高能溅射铜膜采用磁控溅射法在低气压高电压下沉积得到，上述低气压高电压是指：溅射气压为0.2~0.3Pa，溅射电压为350~600V；所述的低能铜膜由溅射镀铜法、化学镀铜法或蒸发镀铜法制得。
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