[发明专利]阵列基板及其制造方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201610136521.9 申请日: 2016-03-10
公开(公告)号: CN105867006B 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 王东方 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种阵列基板,阵列基板被划分为多个像素单元,其中,像素单元内设置有滤光结构,包括在阵列基板的厚度方向上间隔设置的第一遮光件和第二遮光件,第二遮光件包括第二遮光件本体和沿厚度方向贯穿第二遮光件本体的透光孔,第二遮光件本体在第一遮光件所在的层上的正投影的内边缘与第一遮光件的边缘之间存在透光间隙,第一遮光件上方形成有透明的透光空间,透光间隙使得透过透光间隙的光具有预定波长。本发明还提供一种阵列基板的制造方法和一种显示装置。在所述显示装置进行显示时,在实现彩色显示的同时能够降低能耗。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,所述阵列基板被划分为多个像素单元,其特征在于,所述像素单元内设置有滤光结构,所述滤光结构包括在所述阵列基板的厚度方向上间隔设置的第一遮光件和第二遮光件,所述第一遮光件位于所述第二遮光件下方,所述第二遮光件包括第二遮光件本体和沿厚度方向贯穿所述第二遮光件本体的透光孔,所述第一遮光件位于所述透光孔的下方,所述第二遮光件本体在所述第一遮光件所在的层上的正投影的内边缘与所述第一遮光件的边缘之间存在透光间隙,所述第一遮光件上方形成有透明的透光空间,所述透光间隙使得具有预定波长的光透过。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610136521.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top