[发明专利]多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统

摘要

本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公共对称中心对于N度旋转不变，其中N等于或大于180度，其中该两个或更多个图案元素中的每一个具有单独的对称中心，其中各标靶结构的两个或更多个图案元素的每一个围绕该单独对称中心对于M度旋转不变，其中M等于或大于180度。

主权项

1.一种用于从多层重叠标靶测量重叠的系统，包括：照明源，被配置为照射多个标靶结构，所述多个标靶结构被部署于半导体器件的一个或更多个工艺层，所述多个标靶结构为三个或更多个标靶结构，所述三个或更多个标靶结构包括第一标靶结构、第二标靶结构和至少第三标靶结构，其中所述标靶结构中的每一者包括两个或更多个图案元素的集合，其中所述三个或更多个标靶结构被配置为，一旦所述三个或更多个标靶结构对齐时共享公共对称中心，其中所述第一标靶结构设置在第一工艺层中，其中所述第二标靶结构设置与所述第一工艺层不同的第二工艺层中，其中所述至少第三标靶结构设置在至少第三工艺层中，所述至少第三工艺层与所述第一工艺层和所述第二工艺层不同，其中所述两个或更多个图案元素中的每一者围绕其单独对称中心对于180度旋转不变，并且所述图案元素中的所述两个或更多个图案元素包含三个或更多个子元素，其中所述三个或更多个子元素以周期性图案设置；检测器，被配置为收集从所述多个标靶结构反射的光；以及一个或更多个处理器，被配置为基于从所述多个标靶结构收集的光来确定重叠误差，其中所述第一标靶结构围绕所述公共对称中心对于90度旋转不变，其中所述第二标靶结构和所述至少第三标靶结构围绕所述公共对称中心对于180度旋转不变并且围绕所述公共对称中心对于90度旋转是变化的。