[发明专利]粒子复合分析装置的校正方法以及粒子复合分析装置在审
| 申请号： | 201610140820.X | 申请日： | 2016-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN106290084A | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 长谷川祥树;小泉和裕;浅野贵正;武田直希 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | G01N15/02 | 分类号： | G01N15/02;G01N15/06 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种粒子复合分析装置的校正方法以及粒子复合分析装置，在适于多方面地分析测定对象粒子的粒子复合分析装置中能简便且准确地进行为了维持、提高装置的可靠度而需定期进行的装置的校正操作。在该粒子复合分析装置中，具备粒子测量装置和粒子成分分析装置，向粒子测量装置和粒子成分分析装置导入至少已知数量、大小及成分的校正粒子来进行分析，基于由粒子测量装置测定出的校正粒子的数量和大小对粒子测量装置的灵敏度进行校正，基于由粒子成分分析装置测定出的校正粒子的成分量对粒子成分分析装置的灵敏度进行校正。另外，基于粒子成分分析装置的捕捉体上的校正粒子的捕捉状态对导入到粒子成分分析装置的粒子相对于捕捉体的照射轴进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 复合 分析 装置 校正 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种粒子复合分析装置的校正方法，该粒子复合分析装置具备：粒子测量装置，其向作为测定对象的气溶胶的粒子照射激光，基于此时产生的散射光来测量所述粒子的数量和大小；以及粒子成分分析装置，其将作为测定对象的气溶胶的粒子捕捉到捕捉体后，向捕捉体照射能量射线来使被捕捉到捕捉体的粒子气化、升华或反应以产生脱离成分，对该脱离成分进行分析，由此对所述粒子的成分以及该成分的量进行分析，该粒子复合分析装置的校正方法的特征在于，向所述粒子测量装置和所述粒子成分分析装置导入至少已知数量、大小以及成分的校正粒子来进行分析，基于由所述粒子测量装置测定出的校正粒子的数量和大小，对所述粒子测量装置的灵敏度进行校正，基于由所述粒子成分分析装置测定出的校正粒子的成分量，对所述粒子成分分析装置的灵敏度进行校正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机株式会社，未经富士电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610140820.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
