[发明专利]一种光栅制作方法在审

专利信息
申请号: 201610141342.4 申请日: 2016-03-11
公开(公告)号: CN105676351A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 刘胜平;陈向飞;葛海雄;施越春;钱明成;陆骏;张云山 申请(专利权)人: 南京威宁锐克信息技术有限公司
主分类号: G02B6/124 分类号: G02B6/124;G02B6/13;G03F7/00
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 黄熊
地址: 211106 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种光栅制作方法,用以解决现有技术中光栅制作精度较低的问题。方法包括:利用纳米压印技术制作均匀的种子光栅;利用重构-等效啁啾或微结构准相位匹配技术以及所述均匀的种子光栅,制作所需要的目标光栅的等效光栅。
搜索关键词: 一种 光栅 制作方法
【主权项】:
一种光栅制作方法,其特征在于,包括:利用纳米压印技术制作均匀的种子光栅;利用重构‑等效啁啾或微结构准相位匹配技术以及所述均匀的种子光栅,制作所需要的目标光栅的等效光栅。
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