[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模及平板显示器的制造方法

摘要

本发明提供光掩模的制造方法、光掩模及平板显示器的制造方法，该光掩模具有微细且高精度的转印用图案。准备在透明基板上层叠下层膜、蚀刻阻止膜及上层膜而得到的光掩模坯体。下层膜利用能够通过上层膜的蚀刻而进行蚀刻的材料形成，蚀刻阻止膜利用对上层膜的蚀刻具有耐性的材料形成。使用该光掩模坯体顺序地进行上层膜预备蚀刻工序、蚀刻阻止膜蚀刻工序、下层膜蚀刻工序，然后进行上层膜侧蚀刻工序，通过对上层膜进行侧蚀刻，形成上层膜的边缘比下层膜的边缘后退了规定宽度量的缘部。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模具备如下转印用图案，该转印用图案是通过对在透明基板上形成的下层膜、蚀刻阻止膜及上层膜分别进行构图而形成的，其特征在于，该制造方法具有以下工序：准备光掩模坯体的工序，所述光掩模坯体是在所述透明基板上顺序地层叠所述下层膜、所述蚀刻阻止膜及所述上层膜而得到的；上层膜预备蚀刻工序，将在所述上层膜上形成的抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻所述上层膜；蚀刻阻止膜蚀刻工序，至少将被蚀刻后的所述上层膜作为掩模来蚀刻所述蚀刻阻止膜；下层膜蚀刻工序，至少将被蚀刻后的所述蚀刻阻止膜作为掩模来蚀刻所述下层膜；以及上层膜侧蚀刻工序，至少将所述抗蚀剂图案作为掩模来对所述上层膜进行侧蚀刻，由此形成所述上层膜的边缘比所述下层膜的边缘后退了规定宽度量的缘部，所述下层膜由能够通过所述上层膜的蚀刻剂进行蚀刻的材料形成，所述蚀刻阻止膜由对所述上层膜的蚀刻剂具有耐性的材料形成。